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超水设备出水水质完全符合美国ASTM水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部水水质试行标准、美国半导体工业用水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
光电行业对水质的要求:
新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的水、超水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
应用场合:
☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;
☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏;
☆高品质显像管、萤光粉生产;
☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗;
☆超材料和超化学试剂、超化工材料;
☆实验室和中试车间;
☆汽车、家电表面抛光处理;
☆光电产品;
☆其他高科技精微产品;
典型电子级超水制备工艺:
☆预处理----反渗透----水箱----阳床----阴床----混合床----水箱----水泵----紫外线杀菌器----精制混床----微孔膜过滤器----用水对象
☆预处理----一级反渗透----pH调节装置----中间水箱----二级反渗透----水箱----水泵----紫外线杀菌器----微孔膜过滤器----用水对象
☆预处理----二级反渗透----中间水箱----水泵----EDI装置----水箱----水泵----紫外线杀菌器----微孔膜过滤器----用水对象
新工艺
☆预处理----二级反渗透----中间水箱----水泵----EDI装置----水箱----水泵----紫外线杀菌器----抛光混床----TOC分解器----微孔膜过滤器----用水对象